Российский производитель микроэлектроники «Микрон» (входит в группу компаний «Элемент», ELMT) успешно тестирует первый высокочувствительный фоторезист отечественного производства для техпроцессов 90 нм, сообщает компания в среду.
Фоторезист – светочувствительный полимерный материал для фотолитографии, который используется в ключевом процессе изготовления интегральных микросхем с целью получить на поверхности обрабатываемого материала «окна» для доступа травящих веществ. Строгое соответствие материала необходимым техническим требованиям и стандартам микроэлектронного производства обеспечивает точное формирование элементов на пластине.
В техпроцессах «Микрона» используется 43 сверхчистых химических материала и 39 специальных электронных газов и смесей, ведется активная работа по замене всех компонентов отечественными аналогами в целях обеспечения технологического суверенитета.
«Выпуск отечественных материалов для микроэлектроники открывает путь к прекращению монополии иностранных игроков. Работы по импортозамещению важно вести в кооперации с научными учреждениями – тогда исследования сразу переходят в производство, — отметила Гульнара Хасьянова, генеральный директор АО «Микрон». – Отечественный фоторезист для 90 нм — это важная веха в импортозамещении материалов и развитии производства микроэлектроники. Микрон ведет беспрецедентную в мировой практике замену материалов на действующем производстве. Приглашаем к сотрудничеству всех заинтересованных производителей».
В программе «Микрона» по импортозамещению материалов участвуют в настоящее время более 16 российских производителей и научных институтов. Новый отечественный фоторезист выпускается на предприятии Приволжского федерального округа, крупнейшего в стране центра химической промышленности, обеспечивающего более 40% от общего объема производства российских химических материалов.
