Китайская госкомпания Aishengna Electronic Technology Group, о которой мало что известно, приступила к серийному производству установок иммерсионной литографии в глубоком ультрафиолете (DUV) собственной разработки — технологии, критически важной для производства передовых чипов, сообщает asia.nikkei.com.
Оборудование DUV необходимо для производства чипов по технологии 2-нм. Рынок таких машин принадлежит фактически одной компании, голландской ASML. Успешное внедрение собственного DUV-оборудования обеспечит китайским производителям чипов независимость от зарубежных литографических DUV-систем, экспорт которых в КНР запрещён.
См. также: ASML спрогнозировала падение продаж своих машин из-за антикитайских санкций
Ожидается, что установки DUV китайского производства будут поставлены в этом году ведущим китайским производителям чипов, включая Semiconductor Manufacturing International Corp (SMIC), Hua Hong Semiconductor и производителя чипов памяти ChangXin Memory Technologies (CXMT).
Акции ASML за два дня после того, как стало известно о начале производства литографических машин Aishengna, упали на 10%.
Китай планирует произвести пять иммерсионных систем DUV в 2026 году, в 2027 году – 20. ASML в 2025 году поставила 131 такую систему. В среднесрочной перспективе Aishengna опасности для ASML не представляет, но со временем китайский рынок может быть потерян. А этот рынок важнейший – так, в 2026 году 20% выручки (9 миллиардов евро) ASML получит за счёт поставок в Китай литографических машин предыдущего поколения.
Санкции, запрещающие ASML поставки в КНР, ввели американцы – с идеей замедлить рост китайской полупроводниковой индустрии. Как следствие, в стране возникли экономические условия для создания собственного производства микросхем. Доминирующее положение ASML ослаблено.
См. также: Технологии изготовления микросхем на TSMC – цифры
